ASML adapta los sistemas High-NA-EUV para los mayores chips de IA – Se espera un aumento del 40 % en productividad
Tiempo de lectura: 4 minutos
ASML hará que el High-NA EUV también sea accesible para los mayores chips de IA y promete hasta un 40 % más de productividad. El auge de la IA está impulsando la demanda de litografía de última generación. Para el Low-NA EUV, ASML ya está prácticamente reservado para 2027. Tras un fuerte segundo trimestre, ASML elevó significativamente su pronóstico anual a entre 43 y 45 mil millones de euros en ingresos. ASML está desarrollando su próxima generación de sistemas High-NA-EUV para chips de IA y centros de datos especialmente...
Lee este artículo ahora con una cuenta gratuita.
Tus beneficios:
- Cada mes, puedes leer 5 artículos de la sección premium de forma gratuita.
- Cada mes, 2 números de prueba del periódico Trader de forma gratuita.
- Crea una lista de seguimiento personal con un resumen de las noticias sobre tu acción.
